-.당사는 [중소기업청]에서 주관하는 기술 혁신 개발 사업 계획의 전략 과제로 \"100nano 입자를 이용한 가공 정반의 개발”이 선정되어 당사에서 기술 개발을 향후 2년간(수행기간:2007.11.1~2009.10.30,위탁기관:금오공대기계과) 수행하게 되었습니다. -.현재 나노 산업의 발달로 인하여 초정밀 가공의 수요가 증가하고 있으나 초정밀 가공용 공구 등은 아직도 수입 사용함으로 기술의 해외 의존도가 높고, 선진국과의 기술 수준의 차이가 심화됨에 따라 초정밀 가공의 높은 가공 단가와 피가공물의 품질의 한계, 품질과 재질 등에 따른 맞춤형 공구개발이 부족한 실정입니다. 따라서 고품질의 다이아몬드 폴리싱 정반 개발을 수행함으로써 이같은 현장의 요구에 충실히 대응하고자 합니다. -.그래서 피삭재의 재질과 요구하는 조도에 따라 폭넓게 신소재의 폴리싱 가공에 적용 할 수 있는 정반의 개발이 필요한 시점에 이 과제가 완료되면 당사에서 그 동안 생산해 왔던 장비와 정반이 함께 판매가 됨으로 매출증대에 상당한 시너지 효과를 얻을 수 있다고 생각됩니다. -.이에따른 기대효과는 *.초정밀 가공정반의 수입대체 효과와 산업용 부품 초정밀 폴리싱 등으로 신규시장 창출 효과 기대. *.당사 제작 양면기 및 단면기에 본 정반을 장착 사용할 수 있으므로 국내.외 시장에 진출 효과 기대 *.반도체 Wafer, FPD 유리기판 등 IT핵심 소재의 부품 가공에 최상의 가공 정밀도를 구현 *.세라믹 및 비철계의 폴리싱용 정반으로 가공물의 일정한 표면 품위 유지가 가능 *.100 나노급 입자 사용으로 가공 정밀도를 향상시키며, 별도의 연마재가 필요 없는 정반으로 슬러리를 사용하지 않고 가공액을 물만 사용하므로 환경오염 방지에 기여 *.다양한 형상의 공작물 가공이 가능해져 관련 산업의 정밀도 향상에 기여 *.수입 대체 효과와 저렴한 가격으로 품질 개선이 용이 *.수출 확대 품목으로써 태양광 발전용 Silicon 소자 Polishing, 도광판 금형재 (Starvax) Polishing, 니켈 도금 박판 Polishing, 액정 전면 polishing용 (L.C.D. All burnish), Photo-mask pattern 제거용 정반, 평면 Polishing용 (Flat burnish), 양면 Polishing용 정반 (Double burnish), 에지 연마용 wheel (Edge burnish) 기타 산업용 부품 초정밀 Polishing등으로 광범위한 시장 창출 효과를 기대 *.장비 제작 및 각종 정반(Fe,Cu,Tin,Al2o3 등)생산업체에서 다이아몬드 Pallet정반 생산으로 랩핑/폴리싱 전문 업체로 국내 유일하게 자리매김 가능하며 국제적 경쟁력을 갖춘 국내 최대의 랩핑 전문업체로 성장이 가능합니다.