당사의 숙원인 크린룸이 \'06년 9월에 착공하여 \'07년 1월에 드디어 완공되었습니다. 그동안 나노및 옹그스트롱급 제품 생산에 한계를 절감했던 당사가 이제야 전방위 랩핑/폴리싱이 가능한 크린룸을 구비하게 되었습니다. 최근의 생산 활동이 고부가가치의 다품종 소량 생산 시대로 변모해 가고 있고, 종래보다 한층 순도가 높고 고정밀도가 필요한 제품들이 요구되기 때문에 제품의 품질에 직접적인 악영향을 주는 여러 Particle, Metals, Moisture, Mobile ion 과 기타 chemical등의 유입을 차단하고 실내공기 중의 부유 입자의 농도를 청정도 수준 한계로 제어함이 반드시 필요함으로, 고품질의 제품을 생산하기 위한 크린룸의 설치가 절실했던 것이 사실이었습니다. 그리하여 당사는 지난 2006년 중소기업청의 기술혁신 전략과제인“Quartz Blank의 평탄도 및 거칠기 제어 기술”에 관한 과제를 수행함에 있어 폴리싱룸으로 10,000 class, 세정룸 1,000 class Grade의 크린룸 설비를 완료하여 Quartz의 표면 평탄도 제어 기술을 수행하고 있으며, 향후 각종 재질의 Wafer 재가공,Photo mask 재생 & LCD glass 등의 임가공 등을 수행하는데 만전을 기할 수 있게 되었습니다. Photo mask, Quartz, Glass, Wafer 등의 Re-etching을 통한 재생사업과 연구소나 회사의 pilot order나 각종재질,소량 다품종의 임가공에도 많은 관심을 갖고 업무를 수행할 예정입니다. 수년간의 랩핑, 폴리싱 경험과 know-how을 축적하고 있고 이후 공정에 적합한 세정 설비 또한 구축하고 있는 당사에 많은 관심을 부탁드립니다.